Declaración
Obtenga información y acelere el proceso de desarrollo.
Advanced Energy ofrece soluciones de suministro de energía y control para aplicaciones críticas de deposición de película delgada y geometrías de dispositivos. Para resolver los desafíos del procesamiento de obleas, nuestras soluciones de conversión de energía de precisión le permiten optimizar la precisión, la velocidad y la repetibilidad del proceso.
Ofrecemos una amplia gama de frecuencias de RF, sistemas de alimentación de CC, niveles de potencia de salida personalizados, tecnologías de adaptación y soluciones de monitorización de temperatura por fibra óptica que le permiten controlar mejor el plasma de proceso. También integramos Fast DAQ™ y nuestra suite de adquisición y accesibilidad de datos para proporcionar información del proceso y agilizar el desarrollo.
Conozca más sobre nuestros procesos de fabricación de semiconductores para encontrar la solución que se adapte a sus necesidades.
Tu desafío
Desde películas utilizadas para modelar dimensiones de circuitos integrados hasta películas conductoras y aislantes (estructuras eléctricas) y películas metálicas (interconexión), sus procesos de deposición requieren un control a nivel atómico, no solo para cada característica sino en toda la oblea.
Más allá de la estructura en sí, las películas depositadas deben ser de alta calidad. Deben poseer la estructura de grano, la uniformidad y el espesor conforme deseados, además de estar libres de huecos, además de proporcionar las tensiones mecánicas (compresión y tracción) y las propiedades eléctricas requeridas.
La complejidad no deja de aumentar. Para abordar las limitaciones de la litografía (nodos sub-1 nm), las técnicas de modelado doble y cuádruple autoalineado requieren que el proceso de deposición produzca y reproduzca el patrón en cada oblea.
Nuestra solución
Cuando implementa las aplicaciones de deposición y las geometrías de dispositivos más críticas, necesita un líder de mercado confiable.
La tecnología de adaptación de alta velocidad y suministro de potencia de RF de Advanced Energy le permiten personalizar y optimizar la precisión de potencia, la exactitud, la velocidad y la repetibilidad del proceso requeridas para todos los procesos avanzados de deposición PECVD y PEALD.
Utilice nuestra tecnología de generador de CC para ajustar la respuesta de arco configurable, la precisión de potencia, la velocidad y la repetibilidad del proceso requeridos en los procesos de deposición PVD (pulverización catódica) y ECD.
Beneficios
● La estabilidad mejorada del plasma y la repetibilidad del proceso aumentan el rendimiento
● La entrega precisa de RF y CC con control digital completo ayuda a optimizar la eficiencia del proceso
● Respuesta rápida a los cambios de plasma y gestión del arco.
● La pulsación multinivel con ajuste de frecuencia adaptativo mejora la selectividad de la velocidad de grabado
● Soporte global disponible para garantizar el máximo tiempo de actividad y rendimiento del producto