Declaración
Obtenga información y acelere el proceso de desarrollo.
Advanced Energy ofrece soluciones de control y suministro de energía para aplicaciones críticas de deposición de películas delgadas y geometrías de dispositivos.Para resolver los desafíos del procesamiento de obleas, nuestras soluciones de conversión de energía de precisión le permiten optimizar la precisión, la velocidad y la repetibilidad del proceso.
Ofrecemos una amplia gama de frecuencias de RF, sistemas de alimentación de CC, niveles de salida de energía personalizados, tecnologías coincidentes y soluciones de monitoreo de temperatura de fibra óptica que realmente le permiten controlar mejor el plasma de proceso.También integramos Fast DAQ™ y nuestra suite de accesibilidad y adquisición de datos para proporcionar información sobre el proceso y acelerar el proceso de desarrollo.
Conozca más sobre nuestros procesos de fabricación de semiconductores para encontrar la solución que se adapte a sus necesidades.
Tu desafío
Desde películas utilizadas para modelar dimensiones de circuitos integrados hasta películas conductoras y aislantes (estructuras eléctricas) y películas metálicas (interconexión), sus procesos de deposición requieren control a nivel atómico, no solo para cada característica sino en toda la oblea.
Más allá de la estructura misma, las películas depositadas deben ser de alta calidad.Deben poseer la estructura de grano, la uniformidad y el espesor de conformación deseados, y estar libres de huecos, y eso además de proporcionar las tensiones mecánicas (de compresión y de tracción) y las propiedades eléctricas requeridas.
La complejidad no hace más que aumentar.Para abordar las limitaciones de la litografía (nodos sub-1X nm), las técnicas de patrones dobles y cuádruples autoalineados requieren que su proceso de deposición produzca y reproduzca el patrón en cada oblea.
Nuestra solución
Cuando implementa las aplicaciones de deposición y las geometrías de dispositivos más críticas, necesita un líder de mercado confiable.
La entrega de energía de RF y la tecnología de adaptación de alta velocidad de Advanced Energy le permiten personalizar y optimizar la precisión, la velocidad y la repetibilidad del proceso de energía requeridas para todos los procesos avanzados de deposición de PECVD y PEALD.
Utilice nuestra tecnología de generador de CC para ajustar la respuesta del arco configurable, la precisión de la energía, la velocidad y la repetibilidad del proceso necesarios para los procesos de deposición de PVD (sputtering) y ECD.
Beneficios
● La estabilidad mejorada del plasma y la repetibilidad del proceso aumentan el rendimiento.
● La entrega precisa de RF y CC con control digital completo ayuda a optimizar la eficiencia del proceso
● Respuesta rápida a los cambios de plasma y gestión del arco.
● La pulsación multinivel con ajuste de frecuencia adaptativo mejora la selectividad de la tasa de grabado
● Soporte global disponible para garantizar el máximo tiempo de actividad y rendimiento del producto.