Fuente de alimentación de radiofrecuencia
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Fuente de alimentación RF serie RLS
La fuente de alimentación RF de la serie RLS adopta el amplificador de potencia actual estable y confiable y el sistema de control de CC central de la compañía, por lo que el producto tiene un rendimiento muy estable y una alta confiabilidad.Adopte una interfaz de visualización en chino e inglés, fácil de operar.Se utiliza principalmente en la industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, laboratorio, investigación científica, fabricación, etc.
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Comparadores de la serie RMA
Se puede adaptar a la fuente de alimentación RF de la serie RLS y se usa ampliamente en grabado por plasma, recubrimiento, limpieza por plasma, desgomado por plasma y otros procesos.Cuando se utiliza solo, se puede utilizar junto con fuentes de alimentación RF de otros fabricantes.
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Fuente de alimentación RF serie RHH
La fuente de alimentación RF de la serie RHH se basa en una tecnología madura de generación de RF para proporcionar a los clientes una fuente de alimentación RF con mayor potencia, mayor precisión y respuesta rápida.Con fase se puede configurar, controlar por pulso, sintonización digital y otras funciones.Campos aplicables: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, laboratorio, investigación científica, fabricación, etc.
Procesos aplicables: deposición química de vapor mejorada con plasma (PECVD), grabado con plasma, limpieza de plasma, fuente de iones de radiofrecuencia, difusión de plasma, pulverización catódica de polimerización de plasma, pulverización catódica reactiva, etc.