Fuente de alimentación de pulverización catódica
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Fuente de alimentación de pulverización catódica de frecuencia media serie MSB
La fuente de alimentación RF de la serie RHH se basa en tecnología avanzada de generación de RF para ofrecer a los clientes una fuente de alimentación RF de mayor potencia, precisión y respuesta rápida. Incluye configuración de fase, control de pulsos, sintonización digital y otras funciones. Campos de aplicación: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, laboratorios, investigación científica, fabricación, etc.
Procesos aplicables: deposición química en fase de vapor mejorada con plasma (PECVD), grabado de plasma, limpieza de plasma, fuente de iones de radiofrecuencia, difusión de plasma, pulverización catódica por polimerización de plasma, pulverización catódica reactiva, etc.
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Fuente de alimentación de pulverización catódica serie MSD
La fuente de alimentación de CC para pulverización catódica serie MSD incorpora el sistema de control de CC central de la compañía, combinado con un excelente esquema de procesamiento de arco, lo que le otorga un rendimiento muy estable, alta fiabilidad, mínimo daño por arco y buena repetibilidad del proceso. Incorpora una interfaz de pantalla en chino e inglés, fácil de usar.