Fuente de alimentación por farfulla
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Fuente de alimentación de pulverización catódica de frecuencia media serie MSB
La fuente de alimentación RF de la serie RHH se basa en una tecnología madura de generación de RF para proporcionar a los clientes una fuente de alimentación RF con mayor potencia, mayor precisión y respuesta rápida.Con fase se puede configurar, controlar por pulso, sintonización digital y otras funciones.Campos aplicables: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, laboratorio, investigación científica, fabricación, etc.
Procesos aplicables: deposición química de vapor mejorada con plasma (PECVD), grabado con plasma, limpieza de plasma, fuente de iones de radiofrecuencia, difusión de plasma, pulverización catódica de polimerización de plasma, pulverización catódica reactiva, etc.
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Fuente de alimentación de pulverización serie MSD
La fuente de alimentación de pulverización catódica de CC de la serie MSD adopta el sistema de control de CC central de la compañía combinado con un excelente esquema de procesamiento de arco, de modo que el producto tiene un rendimiento muy estable, alta confiabilidad del producto, daño de arco pequeño y buena repetibilidad del proceso.Adopte una interfaz de visualización en chino e inglés, fácil de operar.